光學鍍膜應用——鏡頭鍍膜

發(fā)布時間：

2021-09-15

在上世紀70年代以前，鏡頭鍍膜方法大多以化學反應為主。這種方法必須嚴格的控制化學溶液的濃度和架橋劑的組合，進行反應的時間和條件等。由于，僅能小量批次生產(chǎn)，所獲得的質(zhì)量良莠不齊。

　　一、化學鍍膜法和物理鍍膜法

　　在上世紀70年代以前，鏡頭鍍膜方法大多以化學反應為主。這種方法必須嚴格的控制化學溶液的濃度和架橋劑的組合，進行反應的時間和條件等。由于，僅能小量批次生產(chǎn)，所獲得的質(zhì)量良莠不齊。

　　比較常用的加工法：一為浸鍍法，另一則為噴鍍法。浸鍍法是根據(jù)欲配置膜的性質(zhì)制備含有成分的溶液，然后將玻璃加熱到一定溫度，放入配置好的化學溶液里，拿出，烘干。

　　浸鍍法是唯yi可以同時制作雙面膜的方法。不過，后來的一些鏡片設(shè)計要求，不需要雙面膜。因此，必須將另一面清洗掉，增加了成本和環(huán)保的負擔。

　　噴鍍法則是把配置好的膜溶液裝在噴槍上，噴在玻璃表面，并烘干和定型。玻璃載體可以是移動或旋轉(zhuǎn)，以增加膜的均勻性?？慑冸p面或單面。以此方法延生的還有一種甩膠法。將溶液滴至鏡片ZX，利用鏡片高速旋轉(zhuǎn)的離心力，將溶液均勻的“拋”在表面上。以現(xiàn)在的觀點來看，化學鍍膜的好處，在于其設(shè)備投資低，因此它仍然是鍍有機膜的一種常用且成本低廉的方法。

　　化學鍍膜法具有價格低，操作容易等優(yōu)點，但也有相對污染較大，無法鍍多層膜的缺點。新一代的鍍膜技術(shù)改用物理方式，以真空蒸鍍、離子鍍等多種不同的形式進行。

　　物理鍍膜的過程是在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)(膜材)部分離化，在工作氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)的離子轟擊作用下，把蒸發(fā)物或其反應物沉淀積在被鍍基片表面的過程。物理鍍膜的強度和均勻性普遍高于化學鍍膜，而且Z重要的是物理鍍膜可以進行多層鍍膜，而化學鍍膜受限于其工作原理基本只能實現(xiàn)單層鍍膜。

　　二、尼康的納米結(jié)晶涂層鍍膜

　　進入21世紀，CCD和CMOS逐漸替代了膠片，半導體成像性質(zhì)與化學顆粒完全是兩回事，因此，人們對鏡頭鍍膜的要求也發(fā)生了變化，因為感光原件本身也會反射光線，所以更加需要避免鬼影和眩光。

　　與一直以來鍍膜依靠反射光干涉的原理不同，納米結(jié)晶涂層是依靠納米級別的微小結(jié)晶粒子與間隙中的空氣相互作用，降低折射率并使其變得更加穩(wěn)定。折射率下降了，反射光也就隨之減弱。對于大于入射角的光線來說這是一項具有革命性意義的鍍膜技術(shù)，使得鏡頭鍍膜技術(shù)邁進了一個新時代。

　　以往就算鏡頭采用高性能的多層鍍膜，也會有肉眼可以看到的微量反射，但是如果采用納米結(jié)晶涂層，那反射就微乎其微，肉眼幾乎辨識不出?？匆幌屡c以前的鍍膜進行比較的照片，其不同之處就一目了然了。從左開始依次是未鍍膜、多層鍍膜(尼康超級鍍膜)和納米結(jié)晶涂層。

　　奇妙的是，納米結(jié)晶涂層看起來像是只加了一片玻璃，但實際上這其中包括了11層濾色片一樣薄的玻璃。這樣驚人的鮮明度，你怎么也想不到是通過11層玻璃實現(xiàn)的吧。由于它，造成數(shù)碼相機影像模糊的很大原因——由反射產(chǎn)生的眩光，就得到了極大限度的YZ。這薄薄的納米結(jié)晶涂層真是功不可沒。

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